IVD配液罐系统产品特点：

IVD配液罐采用国内优质品牌太钢或宝钢生产的耐温，耐压和耐腐蚀不锈钢316L板材，无毒，不易变形，不脱落，不吸附物料。上下封头采用圆滑过渡无死角易清洗能排尽结构的椭圆封头，且耐压性能好，同等厚度比平封头及其他锥形封头耐压。
IVD配液罐筒体与封头，及管口焊接部分采用全自动焊接技术，内外夹焊，全焊透，无焊渣，焊接牢固，无渗漏，焊接后焊接表面进行抛光处理，无焊接痕迹，焊接后罐内表面平整如一、连续，光滑无死角。
IVD配液罐罐体厚度均能满足真空负压或正压下工作，保证罐体的密封性，洁净性。
IVD配液罐罐体内表面整体精细抛光，光亮无加工痕迹，内表面镜面抛光Ra≤0.4um，所有管口及焊接处均经过抛光打磨处理，光滑不挂料、不积料，能无死角清洗，符合GMP标准。
u800L以下采用不锈钢容器法兰连接，方便安装搅拌系统及起吊投料检修等。1000L及以上采用上下全自动焊接技术焊接，焊接焊缝光滑如一，表面平整连续，无焊接痕迹。

IVD配液罐管口及管道的设计和安装无死角、盲管，能排尽，采用卫生级设计的卡箍快装接头，拆卸方便，易清洗，能消毒灭菌。
IVD配液罐型圈及密封垫片采用卫生级耐腐蚀的聚四氟乙烯材料，不但可以清洗，密封性能好。
IVD配液罐工艺管口按照工艺流量及工艺需求进行设计，标配进液口，清洗口，取样口，排气口，真空口，液位计口，排尽口，出料口视镜射灯等。
IVD配液罐设置视镜和射灯，方便观察液位及物料状态，视镜和射灯采用封闭设计，不与罐体连通。
IVD配液罐真空系统：工艺上需要真空操作的，采用进口真空传感器，真空调节系统，防倒灌系统，具有真空度达到10pa级别。
IVD配液罐设计360度*在线CIP清洗球，可以彻底清洗，无死角，清洗压力≥0.3Mpa。(仅适用于全封闭结构)；
IVD配液罐根据不同的物料要求可以设计上机械式配液罐和下磁力搅拌器。磁力搅拌搅拌器采用优质耐腐蚀SUS316L不锈钢，强磁力机械下耦合磁力搅拌，镜面抛光，无死角。磁力搅拌的优点就是采用静态死密封代替动态密封，保证了全密封、零泄漏、无污染，彻底解决了生物制品罐培养染菌，搅拌定位残留排不尽的问题。
IVD配液罐电机：采用交流电机，能在恶劣的环境中运行；直连电机减速机传动平稳，噪音低，采用电机减速机sew，诺德等。
IVD配液罐控制系统：采用工业触摸屏，画面工艺设计美观，人机互动型号，简单易懂。控制系统具有手动/自动可切换功能，手动模式可以进行工艺参数摸索，人为干预性强。自动模式可以进行一键式全自动操作。可全自动控制搅拌、温度、压力、液位、流量等。温度可以进行单点温度控制，多点温度控制，温度曲线绘制等，温度控制精度±0.3℃。压力可以进行全自动恒压控制，可以自动补压，泄压。流量具有流量监测，流量控制，流量调节等功能。系统不但可以进行数据采集、记录，同时可以进行曲线绘制，数据处理。控制系统的安全装置设有过流保护，超载保护，超温保护等功能。控制系统设计管理密码和权限，只有经授权的人员方可输入或更改数据，更改和删除情况均有记录。
IVD配液罐数据记录系统：数据记录系统多项选择。1.本机内存存储，多可存储3个月。2.外存存储（U盘），存储数据量与U盘的容量有关系。3.PC数据库存储，存储数据量与电脑硬盘可使用容量有关系。
IVD配液罐工艺配方存储功能：可存储500组固定或者用户自定义工艺配方。
IVD配液罐远程控制系统:上位机可远程监控罐体温度、压力、液位、流量等，远监控距离1.5KM。
IVD配液罐手机APP：手机可以控制系统连接，具有手机罐体温度、压力、液位、流量等参数。
IVD配液罐工艺成熟设备可以进行自动化及智能化设计，一键智能化操作，可根据用户工艺要求进行控制模式定制。
IVD配液罐所有的操作及数据具有稳定性，可追溯性，重复性好。
选型指南：
选型依据：
1.罐体容积选择。
2.搅拌均质要求。
3.工艺控制要求：如转速、温度、压力、液位等相关过程参数控制要求。
4.场地设备安装要求：如设备体积、占地面积及管道安装配合。
5.洁净等级要求：根据需要选择是否需要CIP及SIP系统。
6.加热、冷却、真空、压力等工艺要求及过程控制要求。